NewTek发布LightWave 8.2

设计浮尘

[color=red:b313fe076a][size=16:b313fe076a][b:b313fe076a]NewTek发布LightWave 8.2[/b:b313fe076a] [/size:b313fe076a][/color:b313fe076a]

[来 源] 视觉中国

　　NewTek 今天宣布了LightWave 8.2 的主要新特点。更新包括渲染核心，实现了新技术，并且这种新的为图象处理滤镜的选择能应用在最后的图象上，并提供控制和增强渲染输出。新的 LightWave Team 在几何中心也实现了一个全新的设计UV的引擎，这将影响模型和图层，使创造和编辑UV贴图更加容易和更加强有力。视觉中国
   
　　NewTek设计的资深副总裁 Dr.Andrew Cross, PhD表示：“我们极其地高兴这一系列的增强，对于我们的LightWave用户。令人兴奋的新技术是我们开发了anti-aliasing 和重建过滤器，对我们的渲染核心而言，在这个上面继续我们改革的传统。LightWave为UV贴图的细分表面提供适应的和强大的最新解决方案。我们的团队开发导边技术，并将建立它们，让我们的用户更好的使用，还发表了工业标准的生产工具。”视觉中国
   
　　LightWave 8.2 的新特点：视觉中国
   
　　·全新的设计的UV贴图引擎：
        -新UV贴图添补了Subpatch 文件
        -新UV处理掉了所需要的功能，多数UV编辑功能不焊接
        -UV贴图的多选择为编辑添补方式等等。
        -用户可选的为UV贴图的wireframe 颜色视觉中国
   
　　·渲染核心改善：
        -新的像素晶体网格变形anti-aliasing 技术
        -科技目前进步水平是使过滤器能够实施，Box, Gaussian, Mitchell, Lanczos
        -新的‘马赛克’ 渲染方式为VIPER 预览系统
   
　　·IK 助推器系统改进：
        -IK Booster Ghost Mode——用户可选择的“葱皮肤”特点
        -新的调节器和改善作用是引导、储存和复制层级运动数据
        -新的DopeTrack 的功能是支持IK 助推器视觉中国
   
　　·SDK 改善
        -22 种新的功能增强促进了第三方的力量来发展新的 LightWave 工具和访问 LightWave 强有力的核心和存取。